9月20日，由华东理工大学、上海市化学化工学会和上海化学工业经济技术开发区企业协会共同主办的“高纯之‘道’”高端电子化学品与材料科普系列活动“集成电路用电子化学品纯化工艺开发与制造实践”专场讲座在华东理工大学徐汇校区逸夫楼演讲厅举行。复旦大学微电子学院研究员、国家集成电路创新中心首席科学家伍强，复旦大学微电子学院青年副研究员刘显和，上海华力集成电路制造有限公司研发部部长刘必秋博士应邀授课。华东理工大学卓越工程师学院党委副书记、国家卓越工程师学院副院长征春秀出席活动并致辞，讲座由上海电子化学品创新研究院超临界流体技术团队核心研究人员、化工学院郑伟中副教授主持。
图片说明：“集成电路用电子化学品纯化工艺开发与制造实践”专场讲座现场
征春秀在致辞中首先欢迎兄弟院校和制造端的老师和专家来校授课，并表示，电子化学品是集成电路产业和高端制造的重要基础支撑，光刻胶、超净高纯试剂等关键材料的技术突破，对提升产业自主创新能力具有重要意义。她希望通过系列科普活动进一步搭建校地、校企沟通合作平台，将产业实践与人才培养紧密结合，让更多学生了解电子化学品产业发展及前沿技术需求。
讲座环节，伍强、刘显和共同围绕光刻工艺模型与光刻胶材料展开分享，介绍了光刻工艺核心参数、仿真优化方法，剖析了各类光刻胶的材料机理、技术难点及性能优化思路，强调集成电路全链条协同研发的重要性。
图片说明：伍强研究员、刘显和副研究员授课现场
随后，刘必秋从产业化角度，阐述了光刻胶量产应用标准与工艺匹配要求，指出光刻胶国产化核心难点在于工艺适配迭代，并提出通过材料工艺耦合研究、产学研协同创新，助力光刻材料国产化与产业化发展。
图片说明：刘必秋博士授课现场
本次专场讲座从光刻的基础物理、光刻胶材料设计以及晶圆制造工程实践等不同层面，对集成电路制造中的光刻技术与光刻材料进行了系统介绍，为师生深入了解光刻技术、电子化学品及相关材料的研发与产业化提供了交流平台。活动进一步加强了高校、科研机构与产业一线之间的交流，为推动电子化学品领域技术创新、人才培养和产学研协同提供了有益支撑。
本次讲座获得我校国家卓越工程师学院的大力支持，专项班全体同学全程参与，上海市化学化工学会、上海化学工业区以及我校化工学院、材料科学与工程学院、图书馆等相关领域专家与师生代表共同出席。
